C5留分を活用した
幅広い事業展開

当社は1950年、古河電気工業株式会社、横浜ゴム株式会社、日本軽金属株式会社の3社の資本により設立され、米国・B.F.グッドリッチ・ケミカル社より技術提携を受けた塩化ビニル樹脂の製造を開始したのが始まりです。その後、現在の事業である合成ゴムや樹脂の原料となるブタジエン、イソプレンなどを抽出する独自技術を開発し、今日も様々な石油化学製品の製造・販売を行っています。

エラストマー素材事業（会社基盤を支える事業）

• 合成ゴム
• 合成ラテックス
• 化成品（石油樹脂、熱可塑性ゴム）

高機能材料事業（新規展開を中心とする事業）

• 化学品（合成香料、特殊化学品）
• 情報材料（電子材料、重合法トナー）
• 高機能樹脂（シクロオレフィンポリマー）
• 高機能部材（プラスチックフィルム）
• エネルギー関連材料（リチウムイオン電池バインダー）
• 医療器材事業

日本ゼオンの主幹事業は、ナフサ中のC4・C5 留分から独自の技術で抽出された様々な成分を原料として用いた製品群で構成されています。C4留分からは、ゼオン独自の技術であるGPB法を用いて高純度のブタジエンを抽出し、合成ゴムや合成ラテックスを製造しています。一方C5留分からは、GPI法を用いてイソプレン、ピペリレン、ジシクロペンタジエン、2-ブチン等を抽出し、合成ゴム、石油樹脂、シクロオレフィンポリマー、合成香料等を製造しています。

日本ゼオンは合成ゴムの製造を中心に発展してきた会社です。当初はC4留分を大元の原料とするブタジエン系の合成ゴムのみを製造してきましたが、合成ゴム事業の拡大の中で、天然ゴムと同じ化学組成を持つC5系の「イソプレンゴム」への進出をきっかけに、C5事業への道を歩み始めました。

但し、ブタジエンがC4留分の約40％を占めるのに比べ、イソプレンはC5留分中に10％程度しか含まれていません。C5留分のイソプレン以外の成分の有効活用ができなければ事業として採算が合わないため、C5各成分の用途開発を中心に研究開発を進めました。なお、C5の各成分を抽出するGPI法もゼオン独自の技術であり、「C5総合利用」と称する多彩な事業展開を支えています。

GPB法

日本ゼオンの自社技術によって開発されたGPB法は、ゼオン・プロセス・オブ・ブタジエンの意味で、エチレン生産の際に副生するC4留分から抽出蒸留によって高純度のブタジエンを製造する技術です。GPB法は、高品質のブタジエンを最も経済的に生産する技術として大河内記念生産特賞などの各賞を受賞し、世界19ヵ国47プラントに技術輸出されています。

プロセスについて

原料C4留分には約40％強のブタジエン、約50％強のブタン、ブテン類、数％のC4アセチレン類が含まれます。
C4留分は第1抽出蒸留塔の中段にガス状で供給され、溶剤DMFは頂部より供給されます。ブタン類、ブテン類は塔頂より副製品として取り出され、塔底液中のブタジエンは次の第1放散塔へ送られます。ブタジエンは溶剤DMFと分離され、塔底よりアセチレン類などが取り除かれます。溶解度の接近したメチルアセチレン、ブテン類は後続の精留部で除去され、高純度のブタジエンが得られます。

GPBフローシート

GPI法

GPB法に続いて日本ゼオンの自社技術によって開発されたGPI法は、ゼオン・プロセス・オブ・イソプレンの意味で、ナフサを熱分解してエチレンを生産する時に副生されるC5留分から抽出蒸留によって高純度のイソプレン、ジシクロペンタジエン、ピペリレン、アミレンなどを経済的に製造する技術です。日本ゼオン水島工場のC5事業の展開は、大河内記念生産賞を受けたこのGPI法を根幹としています。

プロセスについて

原料C5留分には約15％のイソプレン、約20％のシクロペンタジエン類、約10％のピペリレン、その他にC5オレフィン、アセチレン類などが含まれています。C5留分は前処理塔を経て第1抽出蒸留塔の中段に供給され、溶剤DMFは頂部より供給されます。DMFに不溶な成分は塔頂より取り出され、可溶な成分は高沸点除去塔へ送られ、底部よりジシクロペンタジエン、ピペリレン、高沸点C5類が取り出されます。これ等の成分は次の工程でジシクロペンタジエン、ピペリレンなどに分けられます。
高沸点除去塔の塔頂から出た成分は第2抽出蒸留部でアセチレン類を除去したのち低沸点除去塔へ送られ、その底部よりイソプレン、塔頂部より低沸点C5留分が取り出されます。このような工程を経て得られた各成分を原料として、C5関連製品が水島工場内の各プラントで製造されます。

GPIフローシート