製品・事業

ドライエッチングガス

日本ゼオンは次世代半導体製造に向けて、種々の高選択比の絶縁膜エッチングガスを提供します。

▶ 高選択比 SiN エッチングガス(開発中) ※

▶ 高選択比 SiO2、Low-K エッチングガス(開発中) ※

※ 詳細につきましては弊社へ直接お問い合わせください。